氧化鈦陶瓷靶材

氧化鈦旋轉靶采用等離子噴涂工藝制得，尺寸及純度根據客戶要求定制。
氧化鈦平面靶采用熱壓燒結工藝制得，一般綁定在銅背板上使用，尺寸及純度根據客戶要求定制。


純度：99.99%；電阻率（20°C）： ≤ 0.3Ω.cm。
應用領域：光學玻璃鍍膜，LOW-E鍍膜玻璃，薄膜太陽能鍍膜、平板顯示鍍膜、裝飾鍍膜。


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