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    鉻硅合金靶材


    鉻硅旋轉靶采用噴涂工藝制得,可生產最大長度4000mm,厚度及比例根據客戶要求定制。
    鉻硅平面靶由高純硅、鉻熔煉鑄造得到的中間合金,再精細破碎成粉,經過仔細的混粉,包套,抽真空,熱等靜壓得到CrSi錠坯,然后經過機械加工制得,尺寸及及比例根據客戶要求定制。

    純度:99.9-99.99%
    應用領域:薄膜太陽能工業,低輻射玻璃工業,工具及裝飾鍍膜工業。

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