鎳鉻旋轉靶采用真空熔煉工藝或者熱、冷噴涂工藝制得，尺寸根據客戶要求定制。
鎳鉻平面靶采用真空熔煉、軋制、機加工等工藝流程制得，尺寸根據客戶要求定制。
純度：99.9%；常用比例：80-20Cr wt%、60-40Cr wt%。
應用領域：大面積玻璃鍍膜、汽車裝飾鍍膜、電阻鍍膜、磁記錄和集成電路等領域。在鍍膜行業中，Ni-Cr 系二元合金靶材和薄膜被廣泛應用于耐磨、減磨、耐熱和抗蝕等表面強化薄膜，以及低輻射( Low-E) 玻璃、微電子、磁記錄、半導體和薄膜電阻等高端技術產業，熱處理工藝顯著影響合金的物相結構和顯微組織。
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